Nous avons le plaisir de vous annoncer la tenue des prochaines rencontres RENATECH Litho/Gravure qui auront lieu à l'institut Néel (Grenoble) du mardi 23 juin 2026 au jeudi 26 juin 2026.

Ces journées rassemblent les experts du réseau Renatech dans les domaines de la lithographie et de la gravure. C'est donc l'occasion de présenter les dernières avancées réalisées dans ces domaines. Des industriels seront également invités à présenter leurs dernières innovations.

Le planning envisagé sera une journée lithographie le mardi, une journée litho/gravure le mercredi et une journée gravure le jeudi. Lors de votre inscription, vous pourrez choisir la ou les journées qui vous intéressent.

Les places seront limitées à 60 personnes, avec priorité aux personnes faisant une présentation.

Des visites de la salle blanche seront organisées le mardi à partir de 16h30 ainsi que le jeudi à partir de 13h30.

La date limite pour les inscriptions est fixée au 25/05/2026 via l'onglet inscription.

Les soumissions pour les oraux se font jusqu'au 30/04/2026 via l'onglet « soumission d'une contribution ».

Le format des présentations est de 15 min + 5 min de questions, ajustables en fonction des propositions. 

Les centrales sont invitées à venir avec un ou deux posters pour présenter le laboratoire, les équipements de lithographie et gravure présents dans le laboratoire ainsi que sur des développements technologiques plus spécifiques.